非平衡磁控溅射TiAlN薄膜的高温抗氧化性能研究-钨钼稀土标准知识网

非平衡磁控溅射TiAlN薄膜的高温抗氧化性能研究

采用非平衡磁控溅射技术在硬质合金基体上制备了TiAlN 薄膜。在 400℃- 800℃对试样进行氧化实验，利用 XRD，SEM，精密电子天平等对 TiAlN 薄膜的物相、断口组织形貌以及氧化增重结果进行分析。